Litografia atomica per chip più piccoli

Una startup supportata da Microsoft ha ottenuto un finanziamento di 40 milioni di dollari per portare avanti la ricerca sulla litografia a fascio di atomi di elio. L'obiettivo è raggiungere una risoluzione di 0,1 nanometri nella produzione di chip, un valore significativamente inferiore rispetto a quello ottenibile con le attuali tecnicie di litografia EUV (Extreme Ultraviolet) di ASML. Si parla di un fascio 135 volte più stretto.

Implicazioni per il futuro dei semiconduttori

La litografia è un processo fondamentale nella produzione di semiconduttori. Permette di trasferire i circuiti su un wafer di silicio. Ridurre la dimensione delle feature incise sui chip consente di aumentare la densità dei transistor e, di conseguenza, le prestazioni e l'efficienza dei dispositivi elettronici. Questa nuova tecnicia potrebbe aprire la strada a chip ancora più potenti e compatti.